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用户工艺方案
设备型号:EDC-650Hz-8NPPB湿法刻蚀显影机;
基底材料:4英寸和6英寸基片(公差:+/-0.1mm,厚度:0.1-1.0mm);
化学试剂:1路显影(NaOH),预留1路;
辅助条件:DI rinse,N2 dry,DI bowl wash,N2 purge,DI (BSR);
应用工艺:主要为显影;
EDC-650Hz-8NPPB
湿法刻蚀显影机
1)独家VoD顶盖阀门控制技术;
2)显影腐蚀液独立的试剂供给管路;
3)处理腔内差压精准控制;
4)满足2英寸~8英寸的防腐托盘;
5)试剂注射角度可调节;
6)独特设计的“腔洗”构造,保证“干进干出”。
匀胶机(带晶圆去边EBR功能)
WS-650Mz-23NPPB/UD3B
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