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Ossila紫外臭氧清洗机

型号：L2002A2

我们所提供的紫外臭氧清洗系统是一种简单，经济，高效的材料表面清洗设备。只需把样品放置到托盘上，关上舱门，设置时间，按下运行按钮，就可以在几分钟内，快速去除大多数无机基材上的有机污染物，为您提供超洁净的表面。通过使用高功率紫外线光源产生臭氧，将污染物分解成挥发性化合物。这些挥发性化合物从表面蒸发而不留痕迹。这种方法可产生接近原子级的清洁表面并且不会损坏样品。

应用工艺：

•改善表面亲水性

•表面清洗

•准备薄膜沉积

•表面处理

•紫外固化

•表面灭菌消毒

•去除表面单分子膜

•表面氧化

•清洗AFM / STM探针

•清洗光学元件

可清洗的基材示例：

•石英

•硅

•氧化硅

•氮化硅

•金

•镍

•铝

•砷化镓

•矾土

•玻璃

•不锈钢

可去除的污染物示例：

•光刻胶

•树脂

•人体皮肤油脂

•清洗溶剂的残留物

•塑料/硅片表面油渍

•助焊剂

产品特点：

•成本低；

•120x120mm样品台；

•最大处理样品高度为14mm；

•抽屉式样品台，简单方便；

•样品台自安全联锁，防止对人身伤害；

•LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”；

•60分钟计时器；

•高强度紫外线灯源；

•样品清洗无需溶剂；

•超净表面。