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工作原理：
清洁过程基于液态或气态二氧化碳的受控膨胀。这种膨胀导致小干冰粒子和高速载气流成核。在与表面碰撞后，干冰通过动能传递来去除各种大小的颗粒，而碳氢化合物和有机物则通过瞬时溶解或冷冻断裂来去除。高速气体将污染物吹走。此外，喷嘴设计的改变可用于清洁大型望远镜的镜片。
优势：
•可去除所有大小的颗粒，从可见到3-5纳米的颗粒
•可以去除碳氢化合物污染和有机残留物
•无磨损、无残留、无化学废物– 环保型
应用领域：
•从金属，陶瓷，聚合物和玻璃中去除污染
•从Si，InP和GaAs晶片中去除颗粒和污点
•清洁光学器件，即涂层透镜，激光，IR和UV光学器件
•表面分析前（Auger，XPS，SIMS）和AFM的样品制备
•一般的实验室，生产间和洁净室的清洁
•基片制备
•许多金属和陶瓷组件的制造
•清洁真空系统部件，波纹管，电子和离子光学器件
•去除微电子和混合电路中的微粒
•艺术品清洁
•清洁望远镜镜片
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可用于半导体，磁盘驱动器，真空技术，表面分析，光学，医学，分析仪器，金属，陶瓷，望远镜，艺术修复，火损修复等众多关键和非关键清洁应用养护等。
简述：
二氧化碳干冰清洗系统简单易操作，它们是由CO2源，一个带内孔的喷嘴，一个开/关阀，和一个将CO2从源头输送到喷嘴的装置组成。一个典型的系统，如下图所示，包括一个气瓶配件、管道、开/关枪或阀门和喷嘴。这些单元均由PTFE柔性材质的不锈钢钢制软管制成。可用的开/关控制包括电磁阀、气动阀、手动阀，或手枪。
便携版
我们有两个便携式设备，K1-Port和K4S-Port。每个设备都配有一个9盎司（.26公斤）的二氧化碳罐。K1-Port是一个简化的标准装置，不需要电源，总重量超过2磅，约1公斤。K4S-Port重量更轻，配有电池组或脚踏开关和电源。