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概述
mr-NIL212FC是一种液态光固化纳米压印胶，专为软紫外纳米压印技术（Soft UV-NIL）设计，尤其适用于PDMS类弹性印章（推荐型号：KER-4690）。其典型应用包括作为刻蚀掩模，用于SiO₂等难刻蚀基材的图案转移。
核心优势
1.快速固化技术（FC）：即使低于200 nm的微细结构，也能在低强度光源下快速固化。3.高刻蚀稳定性：较标准版mr-NIL210显著提升，适合硬质基材。
3.兼容性广：支持硅、蓝宝石、玻璃等基材，需搭配底涂剂（如mr-APS1或Omnicoat）。
通用信息
参数 | 说明 |
材料成分 | 光固化配方，纯有机成分，无硅。 |
基材 | 硅、SiO₂、玻璃、蓝宝石；附着力取决于图案尺寸和密度，部分情况需底涂剂。 |
印章 | - 软印章：PDMS类（推荐KER-4690），兼容h-PDMS、x-PDMS及OpTool GMN系列。 |
紫外曝光 | 波长范围320–420 nm，环境氧气干扰极小。 |
曝光剂量 | - 汞灯宽带曝光：>1 J/cm² |
后烘烤（可选） | 100°C烘烤60秒可进一步提升刻蚀性能。 |
残留层去除
l O₂等离子体、Br/Cl/F基等离子体、Ar等离子体均可。
剥离方法
l 湿法：热硫酸（Piranha）、O₂等离子体。
l 溶剂：PGMEA、苯甲醚或mr-REM700超声处理（40–60°C）。
处理细节
参数 | mr-NIL212FC-100nm | mr-NIL212FC-200nm | mr-NIL212FC-300nm |
膜厚（nm） | 100 ± 15 | 200 ± 20 | 300 ± 30 |
旋涂条件 | 3000 rpm，30秒，加速度1000 rpm/s | ||
预烘烤 | 60°C，3分钟 | ||
压印参数 | 室温，压力<100 mbar，曝光剂量>1 J/cm² | ||
后烘烤（可选） | 100°C，1分钟 | ||
标准处理条件
l 环境：温度20–25°C，湿度40–46%。
l 稀释：可用ma-T 1050稀释，建议联系厂家定制膜厚。
l 基材准备：需O₂等离子清洗，推荐使用底涂剂（如mr-APS1）。
印章准备
l 软印章（PDMS）：无需防粘层，推荐KER-4690或OpTool GMN系列。
l 硬印章（石英、硅等）：需涂覆防粘层（如F13-TCS）。
存储与安全
l 存储：15–25°C，保质期6个月。
l 废弃处理：未固化胶按无卤溶剂处理，固化后按固体废弃物处置。
l 安全防护：佩戴手套、护目镜，确保通风。
附件：技术参数
特性 | mr-NIL212FC-100nm | mr-NIL212FC-200nm | mr-NIL212FC-300nm |
动态粘度（mPa·s） | 1.5 ± 0.2 | 1.8 ± 0.2 | 2.2 ± 0.2 |
密度（g/cm³） | 0.976 ± 0.005 | 0.990 ± 0.005 | 0.999 ± 0.005 |
折射率（589 nm） | 1.409 ± 0.002 | 1.416 ± 0.002 | 1.442 ± 0.002 |
稀释比例（ma-T 1050）
l 300 nm稀释至200 nm：质量比1.0/0.36
l 300 nm稀释至100 nm：质量比1.0/1.3
l 200 nm稀释至100 nm：质量比1.0/0.7
薄膜厚度和自旋曲线
旋涂膜的厚度数据是指开放式旋涂系统。对于使用椭圆偏振法的薄膜厚度测量，可以使用以下柯西系数:n0 = 1548，n0 = 1548, n1 = 81.7, n2 = 78.8, 柯西公式：n(λ) = 10-3 n0 + 102 n1 / λ2 + 107 n2 / λ4
图1所示。mr-NIL212FC-100nm、mr-NIL212FC-200nm和mr-NIL212FC-300nm的自旋曲线，在3000转/分的转速下得到的膜厚分别为100nm、200nm和300nm。（30 s旋转时间，旋转涂层后液膜厚度及退火步骤。）