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产品核心优势
l 超快速固化：专为高通量生产设计，紫外光照射下极速固化，大幅提升生产效率，尤其适合卷对卷（R2R）和喷墨印刷（Inkjet）工艺。
l 低粘度配方：溶剂0 添加，流动性极佳，可快速填充印章微腔，完美适配 喷墨打印 和 凹版涂布 等精密沉积技术。
l 高刻蚀选择性：固化后材料具有优异的刻蚀稳定性，是图案转移工艺的理想选择。
l 无黄变特性：紫外曝光后无黄变，确保光学器件的高透明度。
为什么选择mr-UVCur26SF？
✅ 简化生产流程：
l 无需预烘烤（溶剂型配方），直接进入压印步骤，减少工艺时间。
l 适配硬质印章（Si/SiO₂/Ni） 和 OrmoStamp®，需搭配防粘层（如 F15-TCS）以降低缺陷率。
✅ 广泛兼容性：
l 紫外波长300–410 nm（汞灯或 LED），支持 365–405 nm LED 单色光源。
l 适用于刚性基材（硅、玻璃）和柔性基材（PET/PMMA），推荐 电晕处理 提升附着力。
✅ 工业级量产适配：
l 完美匹配EV Group、SUSS MicroTec 等主流纳米压印设备，支持 R2R 和 Roll-to-Plate 工艺。
l 喷墨参数可调（温度、频率、脉冲长度），满足多样化生产需求。
典型应用场景
l 柔性电子：OLED 微结构、可穿戴传感器图案化。
l 光学薄膜：增亮膜、抗反射光栅的批量制造。
l 纳米压印量产：高分辨率光子晶体、微流控芯片的快速成型。
技术参数速览
特性 | 参数值 |
动态粘度（25°C） | 15.0 ± 1.0 mPa·s |
折射率（589 nm） | 1.475 ± 0.002 |
紫外敏感波长 | 300–410 nm |
固化剂量 | >700 mJ/cm²（365 nm） |
存储温度 | 25°C（避黄光，保质期 12 个月） |
工艺流程示意图
基材清洁→ 2. 喷墨沉积/凹版涂布 → 3. 压印（<100 mbar） → 4. 紫外固化 → 5. O₂ 等离子刻蚀
使用须知
l 存储要求：25°C 避光保存，开封后需密封防污染。
l 安全环保：无卤素配方，废弃按非卤溶剂和固体化学废物分类处理。
l 后处理：残余层可通过O₂ 等离子体 或 热硫酸（Piranha） 彻底去除。