PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯 ）及共聚物是微电子领域的重要材料。PMMA 是一种用途广泛的聚合物，适用于多种成像和非成像微电子应用。它常被用作电子束直写、X 射线和深紫外光刻工艺中的高分辨率正性光刻胶，也可用作晶圆减薄的保护涂层、键合粘合剂以及牺牲层。
标准 PMMA 产品膜厚范围广，由分子量为 495,000 和 950,000 的树脂，搭配氯苯或更安全的苯甲醚溶剂制成。还可根据需求提供分子量在 50,000 - 220 万的定制产品。此外，共聚物（MMA (8.5) MAA）产品使用更安全的乳酸乙酯溶剂配制。产品包装规格从 500 毫升到 20 升不等。
在使用时，需遵循特定的加工指南。首先，要确保基板清洁干燥，常用且推荐的清洁方式有溶剂清洗、氧气等离子体清洗和臭氧清洗 。涂覆时，可参考薄膜厚度与自旋速度曲线选择合适的 PMMA 稀释度和自旋速度。不同产品的预烘烤、曝光、显影、后烘烤（可选）等环节都有对应的温度、时间、剂量等参数要求。显影后，要用 1:3 或 1:4 的甲基异丁基酮（MIBK）与异丙醇（IPA）混合液、酒精或去离子水进行冲洗和干燥，以终止显影过程并防止产生浮渣。PMMA 和共聚物抗蚀剂可以使用 MCC 的 Remover PG 或标准洁净室溶剂去除 。
操作过程中，要注意安全。由于 PMMA 溶液易燃，应避免接触眼睛、皮肤和衣物，在通风良好的环境下使用，避免吸入烟雾，操作时需佩戴化学防护眼镜、手套（接触氯苯溶液时用聚乙烯醇材质）和防护服。该产品与玻璃、陶瓷等多种材料兼容，但氯苯会腐蚀部分弹性体和塑料，建议使用 VITON A 材质的 O 型圈和 tubing。储存时，应将产品直立放置在干燥区域，温度保持在 10 - 27°C，避免冷藏，远离火源、光线、热源、氧化剂、酸和还原剂。