TMAH 四甲基氢氧化铵
半导体和集成电路制造：作为光刻工艺中的显影剂，TMAH 能选择性地溶解未曝光的光刻胶，留下已曝光部分形成所需的图形，从而将掩膜版上的图案精确转移到硅片等衬底材料上。同时，它还可用于硅片的湿法刻蚀，对硅等材料进行腐蚀加工，制作微机电系统（MEMS）结构，如加速度计、压力传感器等。
液晶显示（LCD）制造：用于取向层的蚀刻，精确控制液晶分子的排列方向，以保证液晶显示器能够正常显示图像 。此外，在液晶盒的制作过程中，也可用作清洗液，去除玻璃基板表面的杂质和污染物，保证液晶盒的制作质量。
印刷电路板（PCB）制造：可用于电路板表面铜层的蚀刻，将不需要的铜腐蚀掉，从而形成特定的电路线路图案。
有机合成：作为一种有机强碱，TMAH 可以在有机合成反应中充当催化剂或反应物，参与如酯交换反应、缩合反应等。
TMAH 具有强腐蚀性，对皮肤、眼睛和呼吸道有强烈的刺激作用，使用时必须做好防护措施，如佩戴防护手套、护目镜和防护服等。在储存和运输时，需要避免与酸性物质、氧化剂等混放，防止发生剧烈反应 。同时，对于使用后的含 TMAH 废液，要按照相关环保规定进行处理，避免污染环境